高强度黑光灯用于光刻机行业

高强度黑光灯用于光刻机行业

生产光刻机的洁净室对环境洁净度要求特别高，光刻机的部件在生产和装配时都需要控制 particle，要确保每个部件上没有 particle。上海路阳生产的大功率 LED 黑光灯，能够激发 particle 发出明亮蓝色荧光，检查人员在上海路阳的黑光灯下能够检测工件表面有没有 particle 存在。LUYOR-365L 便携式高强度手电筒式黑光灯采用可充电的锂电池供电，携带方便，能够对光刻机的大型部件的每个部位进行检测；LUYOR-3405 台式 LED 高强度黑光灯采用台式设计，高度和照射角度在一定范围内可任意调节，适合对光刻机的小部件以及光刻机的配套厂家进行大批量长时间检测。目前，LUYOR-365L 手电筒式黑光灯和 LUYOR-3405 台式黑光灯被多家光刻机行业用户认可和选购。

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光刻机的主要厂家有

1. 上海微电子装备有限公司（SMEE）　上海微电子成立于 2002 年 3 月，是我国国内能够做光刻机的企业。目前，更先进的光刻机是 ASML 的极紫外光刻（EUV），用于 7nm、5nm 光刻技术；对于 EUV 光刻关键技术，国外进行了严重的技术封锁。我国在 2017 年，多个科研单位合作经过 7 年的潜心钻研，突破了 EUV 关键技术。根据相关资料披露，计划 2030 年实现 EUV 光刻机国产化。

上海微电子设备公司已生产出 90 纳米的光刻机设备，这也是生产国产光刻机的较高技术水平，与 ASML 公司差不多有 10 年的差距。因为西方有协议，芯片核心部件材料不能出口到中国，实施封锁政策，导致国产光刻机发展缓慢，上海微电子克服困难自己生产这些零部件。目前生产出来的光刻设备已用到很多的国产企业中，而且也在对封锁进行联合攻关，相信不久就可以向 45nm、28nm 迈进。

2. 中科院光电所　中科院光电所研发出 365 纳米波长、曝光分辨率达到 22 纳米的光刻机，是近紫外的光线，离极紫外还有一点差距。光刻机的波长决定了芯片工艺的大小，波长越短，造价越高。像 ASML 更先进的 EUV 极紫外光刻机，波长只有 13.5 纳米，可以生产 10nm、7nm 的芯片。现在一般使用的是 193 纳米波长的光刻机，分辨率却只有 38 纳米；而中科院研发的光刻机采用了双重曝光的技术，可以达到 22 纳米。不过相关专业人士也指出，这种技术只能做短周期的点线光刻，无法满足芯片的复杂图形，后续还在不断优化和改进中。

3. 合肥芯硕半导体有限公司　合肥芯硕半导体有限公司成立于 2006 年 4 月，是国内半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的 ATD4000，已经实现 200nm 级的量产。不过按照目前获悉的消息，其已经申请破产清算，主要是光刻机对研发的投入资金实在太大，又没有成熟的产品面向市场，终究难免面临倒闭的风险。上海微电子也是通过快速占领光刻后道工艺技术，迅速占领国内 80% 市场份额，才得以生存。

4. 无锡影速半导体科技有限公司　无锡影速成立于 2015 年 1 月，影速公司是由中科院微电子研究所联合业内技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。该公司已经成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备，已经实现 200nm 级的量产。

5. 先腾光电科技有限公司　先腾光电成立于 2013 年 4 月，已经实现 200nm 级的量产；在 2014 国际半导体设备及材料展览会上，先腾光电亮出了完全自主知识产权的 LED 光刻机生产技术。